截至2013年，對(duì)低溫等離子體的作用機(jī)理研究認(rèn)為是粒子非性碰撞的結(jié)果。低溫等離富含電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子，其中高能電子與氣體分子（原子）發(fā)生撞，將能量轉(zhuǎn)換成基態(tài)分子（原子）的內(nèi)能，發(fā)生激發(fā)、離解和電離等一系列過(guò)秸處于活化狀態(tài)。一方面打開(kāi)了氣體分子鍵，生成一些單分子和固體微粒；另一力生．OH、H2O2．等自由基和氧化性極強(qiáng)的O3，在這一過(guò)程中高能電子起決定性作用，離子的熱運(yùn)動(dòng)只有副作用。常壓下，氣體放電產(chǎn)生的高度非平衡等離子體中電子溫層氏度）遠(yuǎn)高于氣體溫度（室溫100℃左右）。在非平衡等離子體中可能發(fā)生各種類型的化學(xué)反應(yīng)，主要決定于電子的平均能量、電子密度、氣體溫度、有害氣體分子濃度和≥氣體成分。這為一些需要很大活化能的反應(yīng)如大氣中難降解污染物的去除提供了另外也可以對(duì)低濃度、高流速、大風(fēng)量的含揮發(fā)性有機(jī)污染物和含硫類污染物等進(jìn)行處理。

原理：反應(yīng)塔內(nèi)裝填特制的固態(tài)填料，填料內(nèi)部復(fù)配多介質(zhì)催化劑。當(dāng)惡臭氣體在引風(fēng)機(jī)的作用下穿過(guò)填料層，與通過(guò)特制噴嘴呈發(fā)散霧狀噴出的液相復(fù)配氧化劑在固相填料表面充分接觸，并在多介質(zhì)催化劑的催化作用下，惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍：適用范圍廣，尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣，對(duì)疏水性污染物質(zhì)有很好的去除率。優(yōu)點(diǎn)：占地小，投資低，運(yùn)行成本低；管理方便，即開(kāi)即用。缺點(diǎn)：耐沖擊負(fù)荷，不易污染物濃度及溫度變化影響，需消耗一定量的劑。

uv光氧催化設(shè)備功能與作用，光催化氧化是在外界可見(jiàn)光的作用下發(fā)生催化作用,光催化氧化反應(yīng)是以半導(dǎo)體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機(jī)物降解為CO2和H2O及其它無(wú)毒無(wú)害成份。本公司利用人工紫外線光波作為能源，配合經(jīng)我公司特殊處理后活性強(qiáng)、反應(yīng)效率高的納米TiO2催化劑,廢臭氣體經(jīng)過(guò)處理后可達(dá)到凈化的更理想的效果。

UV光催化設(shè)備的特點(diǎn)：

1、UV光催化設(shè)備能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物、硫化氫、氨氣等無(wú)機(jī)物類污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)99%以上，脫臭效果大大優(yōu)于頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)

2、UV光催化設(shè)備可適應(yīng)于絕大部分高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，通過(guò)合理的模塊配置可廣泛應(yīng)用于：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制廠、污水處理廠、垃圾中轉(zhuǎn)站、污水泵房、空調(diào)等惡臭氣體的脫臭滅菌凈化處理。可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

3、UV光催化設(shè)備無(wú)任何機(jī)械裝置，無(wú)運(yùn)動(dòng)噪音，無(wú)需專人管理和日常維護(hù)，只需要作定期檢查維護(hù)，維護(hù)和能耗成本低，風(fēng)阻極低，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗，達(dá)到節(jié)能的目的。

4、UV光催化設(shè)備采用光解原理，采取了隔處理，了安全隱患、防火、防、防腐蝕性能高，設(shè)備性能安全穩(wěn)定，特別適用于高濃度易燃易廢氣的場(chǎng)合。

5、UV光催化設(shè)備無(wú)需惡臭氣體進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在-30度~95度之間，濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作，無(wú)需添加其他物質(zhì)及劑參與處理。

6、UV光催化設(shè)備可根據(jù)風(fēng)量及氣體濃度的大小，進(jìn)行靈活配置，采用抽屜式插拔安裝形式，配件統(tǒng)一，安裝及維護(hù)方便。備件可在線維護(hù)和更換，方便靈活。